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現(xiàn)在知識產(chǎn)權(quán)已經(jīng)在經(jīng)濟和社會的發(fā)展中奠定了基礎(chǔ),穩(wěn)固了地位,所以很多人都開始重視起了知識產(chǎn)權(quán),申請專利也是對知識產(chǎn)權(quán)的保護,不過在申請專利過程中,有幾個常見的雷區(qū),今天小編就給大家說說申請專利雷區(qū),以免大家踩到。
自主研發(fā)產(chǎn)品無需申請專利就能獲得保護
一些發(fā)明人認為,只要是自己研發(fā)的產(chǎn)品,無需申請就能獲得保護。
其實不然,專利是一種壟斷權(quán),以在先申請為原則,具有創(chuàng)造性、新穎性和實用性的發(fā)明創(chuàng)造誰先申請,專利權(quán)就授予誰,自主研發(fā)的技術(shù)成果如若不申請專利,就得不到法律確認和保護,一旦出現(xiàn)侵權(quán)行為,研發(fā)者就無法追究他人的法律責(zé)任。
投入規(guī)模生產(chǎn)后才申請專利
一些申請人認為專利申請成功后,就能永遠獲得保護,從而忽視后期的繼續(xù)研發(fā)工作。
特別是很多行業(yè)產(chǎn)品更新?lián)Q代比較快,如果沒有及時跟上專利申請的進程,就會落入這個誤區(qū)陷阱。
一項成果只能申請一類專利
一些申請人認為一項技術(shù)成果只能申請一類專利,要么是發(fā)明專利,要么是外觀專利或者實用新型專利。
其實不然,三種專利保護的側(cè)重點不同,所以同一個產(chǎn)品,完全可以申請多個專利,產(chǎn)品外形、結(jié)構(gòu)或者工藝方便如有不同,具有足夠的創(chuàng)造性和新穎性,就能同時申請多類型或者多個專利,從不同角度獲得授權(quán)保護。
先發(fā)表成果再申請專利
一些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定,而沒有想到先申請專利保護。因為發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術(shù)內(nèi)容,使專利申請失去新穎性而得不到保護,更容易被他人抄襲并進行申請,得不償失。
申請專利沒提前進行檢索
一些申請人提交的專利申請文件都沒有做查新檢索,對技術(shù)方案的新穎性如何不確定,根本不知道其技術(shù)方案有沒有公開過或公開使用過。實際上,往往很多都已重復(fù)。
專利申請完成卻不進行有效管理
一些企業(yè)申請了很多專利,但無專人管理。
每月不及時繳納年費而產(chǎn)生滯納金,甚至將視為放棄而終止該專利權(quán),有的專利已無市場價值還在交納年費;
有的專利權(quán)已經(jīng)遭受侵犯但企業(yè)管理者對專利特征不了解,不能及時提起訴訟,還有的則是專利文書撰寫的申請質(zhì)量差,不能起到應(yīng)該有的保護作用。
專利申請人,看看以上這些申請專利雷區(qū),你踩到了幾個呢?如果想要申請專利但是不了解申請專利的流程,小編建議大家還是委托代理機構(gòu)去辦理吧。
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